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显示 379 条结果

10 小时前

外延设备

MR-4328

薄膜沉积

MIRAE

位置:国内

Year: 2007

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10 小时前

外延设备

MR-4328G

薄膜沉积

MIRAE

位置:国内

Year: 1998

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10 小时前

外延淀积设备

P-7700

薄膜沉积

NAPSON

位置:国内

Year: --

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10 小时前

等离子化学气相沉积

PXJ-100RH

薄膜沉积

SAMCO

位置:国内

Year: --

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10 小时前

化学气相沉积

PXJ-200

薄膜沉积

SAMCO

位置:国内

Year: 1989

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10 小时前

化学气相沉积

PXJ-200-LH

薄膜沉积

SAMCO

位置:国内

Year: 1988

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10 小时前

等离子气相沉积设备

Concept-3

薄膜沉积

Novellus

位置:国外

Year: 2005

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10 小时前

等离子化学气相沉积

Producer GT3

薄膜沉积

AMAT

位置:国外

Year: 2023-2025

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10 小时前

溅射台

NE5500

薄膜沉积

ULVAC

位置:国内

Year: 2003

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10 小时前

溅射台

NE5500

薄膜沉积

ULVAC

位置:国内

Year: 2006

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10 小时前

溅射台

SLRK-S122/S600(IDT)

薄膜沉积

ANELVA

位置:国内

Year: 2000

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10 小时前

溅射台

SPC-530H

薄膜沉积

CANON

位置:国内

Year: 1983/1997

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10 小时前

溅射台

SPC-540H

薄膜沉积

ULVAC

位置:国内

Year: 1986

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10 小时前

溅射台

SPF-530H

薄膜沉积

ULVAC

位置:国内

Year: 1983

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10 小时前

溅射台

SPF-730

薄膜沉积

CANON

位置:国内

Year: 1986-1990

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10 小时前

溅射台

SPF-730H

薄膜沉积

CANON

位置:国内

Year: 1989/1991

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10 小时前

溅射台

SPF-730HC

薄膜沉积

CANON

位置:国内

Year: 1988

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10 小时前

溅射台

SPL-500

薄膜沉积

ULVAC

位置:国内

Year: 1992

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