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显示 379 条结果

10 小时前

等离子体气相沉积设备

Eagle12

薄膜沉积

ASM

位置:国外

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10 小时前

物理气相沉积设备

Endura-CL MOCVD

薄膜沉积

AMJ

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10 小时前

物理气相沉积设备

INOVA

薄膜沉积

LAM

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10 小时前

物理气相沉积设备

COSMOS I-1201

薄膜沉积

CANON

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10 小时前

物理气相沉积设备

COSMOS I-1201

薄膜沉积

CANON

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10 小时前

物理气相沉积设备

COSMOS I-1201

薄膜沉积

CANON

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10 小时前

气相沉积设备

VERTEX-3 DD-803

薄膜沉积

VERTEX

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10 小时前

化学气相沉积

RF3(RF-300A)

薄膜沉积

DNS

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Year: 2006

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10 小时前

化学气相沉积设备

Producer GT Chamber

薄膜沉积

AMAT

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10 小时前

气相沉积设备

Concept Three Speed

薄膜沉积

LAM

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10 小时前

化学气相沉积设备

TRIAS

薄膜沉积

TEL

位置:国外

Year: 2004

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10 小时前

薄膜沉积设备

DJ-1206V-DF(Quixace1)

薄膜沉积

HITACHI

位置:国外

Year: 2006/2007

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10 小时前

薄膜沉积设备

DJ-1206V-DF(Quixace2)

薄膜沉积

HITACHI

位置:国外

Year: 2007

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10 小时前

薄膜沉积设备

DJ-1206VN-DM(Quixace1-ALDINNA)

薄膜沉积

HITACHI

位置:国外

Year: 2006

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10 小时前

薄膜沉积设备

ALPHA-303i

薄膜沉积

TEL

位置:国外

Year: 2006

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10 小时前

气相沉积设备

ENDURA HP

薄膜沉积

AMAT

位置:国外

Year: 2004

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10 小时前

气相沉积设备

CV-200

薄膜沉积

ULVAC

位置:国外

Year: 2005

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10 小时前

溅射台

SME200

薄膜沉积

ULVAC

位置:国外

Year: 2005

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