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顯示 379 筆結果

10 小時前

等离子化学气相沉积

Centura Ultima

薄膜沉積

AMAT应用材料

地點:国外

Year: --

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10 小時前

等离子化学气相沉积

Centura Ultima HDP

薄膜沉積

AMAT应用材料

地點:国外

Year: --

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10 小時前

等离子化学气相沉积

Amat Centura2 DSP

薄膜沉積

AMAT应用材料

地點:国外

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10 小時前

设备

Crius Ⅱ

薄膜沉積

Aixtron

地點:国内

Year: 2019

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10 小時前

镀膜机

Chamber(5CH)

薄膜沉積

ULVAC爱发科

地點:国外

Year: --

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10 小時前

蒸发台

EI-5

薄膜沉積

ULVAC爱发科

地點:国外

Year: 2006

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10 小時前

蒸发台

EI-7K

薄膜沉積

ULVAC爱发科

地點:国外

Year: --

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10 小時前

设备

Revolution

薄膜沉積

CHA

地點:国外

Year: --

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10 小時前

化学气相沉积设备

Producer-GT CVD

薄膜沉積

AMAT应用材料

地點:国外

Year: --

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10 小時前

多腔溅射设备

W300 EX

薄膜沉積

ULVAC爱发科

地點:国外

Year: --

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10 小時前

设备

Crius Ⅱ

薄膜沉積

Aixtron

地點:

Year: --

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10 小時前

外延沉积

MATERIALS Centura HTF EPI System

薄膜沉積

AMAT应用材料

地點:国外

Year: --

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10 小時前

磁控设备

薄膜沉積

Denton

地點:国外

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10 小時前

溅射台

3180

薄膜沉積

Varian

地點:国内

Year: 1985/1996

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10 小時前

溅射台

7600

薄膜沉積

AFTEX

地點:国内

Year: --

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10 小時前

化学气相沉积

9000

薄膜沉積

CVR

地點:国内

Year: --

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10 小時前

电子束蒸发系统

FU-20PEB-1250

薄膜沉積

FULINTEC

地點:国内

Year: 2013

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10 小時前

化学气相沉积设备

Concept C2-CVD-D

薄膜沉積

Novellus

地點:国内

Year: 1996

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