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等离子体气相沉积设备
薄膜沉積
地點:国外
Year: --
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物理气相沉积设备
气相沉积设备
化学气相沉积
Year: 2006
化学气相沉积设备
Year: 2004
薄膜沉积设备
Year: 2006/2007
Year: 2007
Year: 2005
溅射台