全部分類
清洗設備 氧化擴散 光刻顯影 蝕刻 薄膜沉積 離子植入 CMP設備 量測檢測 晶圓測試 晶圓減薄切割 鍵合貼裝 封裝後處理 晶圓傳輸系統 真空及廢氣處理 流體供給
Language
中文 繁體中文 English 日本語 한국어

顯示 37 筆結果

10 小時前

化学机械抛光设备

mirra MESA CMP

CMP設備

AMAT

地點:国外

Year: --

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械研磨

F-REX300S CMP

CMP設備

EBARA

地點:国外

Year: --

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械抛光设备

EPO-222

CMP設備

EBARA

地點:国外

Year: --

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械研磨机

EPO222

CMP設備

EBARA

地點:国内

Year: --

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械研磨机

EPO222

CMP設備

EBARA

地點:国内

Year: --

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械抛光设备

EPO-222T

CMP設備

EBARA

地點:国内

Year: 2004

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械研磨

F-REX300S CMP

CMP設備

EBARA

地點:国外

Year: 2002

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械抛光设备

EPO-222

CMP設備

EBARA

地點:国外

Year: --

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械抛光设备

mirra MESA CMP

CMP設備

AMAT

地點:国外

Year: --

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械抛光机

EPO222

CMP設備

EBARA

地點:国内

Year: --

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械研磨

F-REX300 CMP

CMP設備

EBARA

地點:

Year: 2004.09

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械抛光设备

mirra MESA CMP

CMP設備

AMAT

地點:国外

Year: 2002

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械研磨

F-REX300 CMP

CMP設備

EBARA

地點:国内

Year: 2004.09

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学机械研磨

F-REX300 CMP

CMP設備

EBARA

地點:国外

Year: 2002

聯繫詢價

Verified
10 小時前

研磨设备

EAC300bi-T

CMP設備

EBARA

地點:国外

Year: --

聯繫詢價

Verified
10 小時前

研磨设备

EAC300bi-T

CMP設備

EBARA

地點:国外

Year: --

聯繫詢價

Verified
10 小時前

机械抛光设备

SPEEDFAM CMP-2

CMP設備

SPEED FAM

地點:国外

Year: --

聯繫詢價

Verified
10 小時前

机械抛光设备

Reflexion miniship LK

CMP設備

AMAT

地點:国外

Year: --

聯繫詢價

Verified