说明
描述
设备完整不缺件,已翻新在台湾;
AT:1100采用193nmArF曝光光源，针对于300mm晶圆处理的双级光刻平台。
AT:1100具有12"扫描仪。
AT:1100是一个193nm波长系统，具有业界最高的数值孔径ArF透镜(NA=0.75)。建立在ASML于2000年7月推出的成功的300mm TWINSCAN双级平台之上。
AT:1100以20mJ/cm2的剂量实现每小时93个晶圆的吞吐量。通过分离对齐和曝光操作，可以在不影响吞吐量的情况下对整个30
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无文件
光刻机
AT1100
Verified
分类
光刻显影
上次验证: 11 个月前
产品主要详细信息
状态:
Used
运行状况:
--
产品编号:
晶圆尺寸:
Year:
2002
物流支持
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翻新服务
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