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10 小时前

等离子化学气相沉积

Centura Ultima

薄膜沉积

AMAT应用材料

位置:国外

Year: --

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10 小时前

等离子化学气相沉积

Centura Ultima HDP

薄膜沉积

AMAT应用材料

位置:国外

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10 小时前

等离子化学气相沉积

Amat Centura2 DSP

薄膜沉积

AMAT应用材料

位置:国外

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10 小时前

设备

Crius Ⅱ

薄膜沉积

Aixtron

位置:国内

Year: 2019

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10 小时前

镀膜机

Chamber(5CH)

薄膜沉积

ULVAC爱发科

位置:国外

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10 小时前

蒸发台

EI-5

薄膜沉积

ULVAC爱发科

位置:国外

Year: 2006

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10 小时前

蒸发台

EI-7K

薄膜沉积

ULVAC爱发科

位置:国外

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10 小时前

设备

Revolution

薄膜沉积

CHA

位置:国外

Year: --

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10 小时前

化学气相沉积设备

Producer-GT CVD

薄膜沉积

AMAT应用材料

位置:国外

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10 小时前

多腔溅射设备

W300 EX

薄膜沉积

ULVAC爱发科

位置:国外

Year: --

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10 小时前

设备

Crius Ⅱ

薄膜沉积

Aixtron

位置:

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10 小时前

外延沉积

MATERIALS Centura HTF EPI System

薄膜沉积

AMAT应用材料

位置:国外

Year: --

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10 小时前

磁控设备

薄膜沉积

Denton

位置:国外

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10 小时前

溅射台

3180

薄膜沉积

Varian

位置:国内

Year: 1985/1996

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10 小时前

溅射台

7600

薄膜沉积

AFTEX

位置:国内

Year: --

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10 小时前

化学气相沉积

9000

薄膜沉积

CVR

位置:国内

Year: --

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10 小时前

电子束蒸发系统

FU-20PEB-1250

薄膜沉积

FULINTEC

位置:国内

Year: 2013

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10 小时前

化学气相沉积设备

Concept C2-CVD-D

薄膜沉积

Novellus

位置:国内

Year: 1996

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