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379件の結果を表示

10 時間前

等离子化学气相沉积

Centura Ultima

薄膜堆積

AMAT应用材料

所在地:国外

Year: --

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10 時間前

等离子化学气相沉积

Centura Ultima HDP

薄膜堆積

AMAT应用材料

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10 時間前

等离子化学气相沉积

Amat Centura2 DSP

薄膜堆積

AMAT应用材料

所在地:国外

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10 時間前

设备

Crius Ⅱ

薄膜堆積

Aixtron

所在地:国内

Year: 2019

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10 時間前

镀膜机

Chamber(5CH)

薄膜堆積

ULVAC爱发科

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10 時間前

蒸发台

EI-5

薄膜堆積

ULVAC爱发科

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Year: 2006

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10 時間前

蒸发台

EI-7K

薄膜堆積

ULVAC爱发科

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10 時間前

设备

Revolution

薄膜堆積

CHA

所在地:国外

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10 時間前

化学气相沉积设备

Producer-GT CVD

薄膜堆積

AMAT应用材料

所在地:国外

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10 時間前

多腔溅射设备

W300 EX

薄膜堆積

ULVAC爱发科

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10 時間前

设备

Crius Ⅱ

薄膜堆積

Aixtron

所在地:

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10 時間前

外延沉积

MATERIALS Centura HTF EPI System

薄膜堆積

AMAT应用材料

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10 時間前

磁控设备

薄膜堆積

Denton

所在地:国外

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10 時間前

溅射台

3180

薄膜堆積

Varian

所在地:国内

Year: 1985/1996

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10 時間前

溅射台

7600

薄膜堆積

AFTEX

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10 時間前

化学气相沉积

9000

薄膜堆積

CVR

所在地:国内

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10 時間前

电子束蒸发系统

FU-20PEB-1250

薄膜堆積

FULINTEC

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Year: 2013

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10 時間前

化学气相沉积设备

Concept C2-CVD-D

薄膜堆積

Novellus

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Year: 1996

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