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1980 2026

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10 시간 전

等离子体气相沉积设备

Eagle12

박막 증착

ASM

위치:国外

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10 시간 전

物理气相沉积设备

Endura-CL MOCVD

박막 증착

AMJ

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10 시간 전

物理气相沉积设备

INOVA

박막 증착

LAM

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10 시간 전

物理气相沉积设备

COSMOS I-1201

박막 증착

CANON

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10 시간 전

物理气相沉积设备

COSMOS I-1201

박막 증착

CANON

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10 시간 전

物理气相沉积设备

COSMOS I-1201

박막 증착

CANON

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10 시간 전

气相沉积设备

VERTEX-3 DD-803

박막 증착

VERTEX

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10 시간 전

化学气相沉积

RF3(RF-300A)

박막 증착

DNS

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Year: 2006

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10 시간 전

化学气相沉积设备

Producer GT Chamber

박막 증착

AMAT

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10 시간 전

气相沉积设备

Concept Three Speed

박막 증착

LAM

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10 시간 전

化学气相沉积设备

TRIAS

박막 증착

TEL

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Year: 2004

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10 시간 전

薄膜沉积设备

DJ-1206V-DF(Quixace1)

박막 증착

HITACHI

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Year: 2006/2007

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10 시간 전

薄膜沉积设备

DJ-1206V-DF(Quixace2)

박막 증착

HITACHI

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Year: 2007

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10 시간 전

薄膜沉积设备

DJ-1206VN-DM(Quixace1-ALDINNA)

박막 증착

HITACHI

위치:国外

Year: 2006

가격 문의

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10 시간 전

薄膜沉积设备

ALPHA-303i

박막 증착

TEL

위치:国外

Year: 2006

가격 문의

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10 시간 전

气相沉积设备

ENDURA HP

박막 증착

AMAT

위치:国外

Year: 2004

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10 시간 전

气相沉积设备

CV-200

박막 증착

ULVAC

위치:国外

Year: 2005

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10 시간 전

溅射台

SME200

박막 증착

ULVAC

위치:国外

Year: 2005

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