说明
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12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库; AL 2室、TTN 1室、SIP 2室、ALPS 1室、PcXT 1室、Degas（STD）2室
文件
无文件
个腔室气相沉积设备
Endura Ⅱ PVD 9
Verified
分类
薄膜沉积
上次验证: 11 个月前
产品主要详细信息
状态:
Used
运行状况:
--
产品编号:
晶圆尺寸:
Year:
2007
物流支持
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翻新服务
可用
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