等离子化学气相沉积设备
说明

描述

NeXT x 3Ch(ILD HDP)[HF_Apex10013, LF_PDX8000&5000, RPS_MKS, TMP_Mag2000C], Brooks_Loadportx3

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分类
薄膜沉积

上次验证: 11 个月前

产品主要详细信息
状态:
Used

运行状况:
--

产品编号:

晶圆尺寸:

Year:
2004

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