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二手半导体设备交易平台 | semicn.com
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清洗设备 氧化扩散 光刻显影 刻蚀 薄膜沉积 离子注入 CMP设备 量测检测 晶圆测试 晶圆减薄切割 键合贴装 封装后处理 晶圆传输系统 真空及废气处理 流体供给
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10 小时前

化学机械抛光设备

mirra MESA CMP

CMP设备

AMAT

位置:国外

Year: --

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Verified
10 小时前

化学机械研磨

F-REX300S CMP

CMP设备

EBARA

位置:国外

Year: --

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Verified
10 小时前

化学机械抛光设备

EPO-222

CMP设备

EBARA

位置:国外

Year: --

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10 小时前

化学机械研磨机

EPO222

CMP设备

EBARA

位置:国内

Year: --

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10 小时前

化学机械研磨机

EPO222

CMP设备

EBARA

位置:国内

Year: --

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Verified
10 小时前

化学机械抛光设备

EPO-222T

CMP设备

EBARA

位置:国内

Year: 2004

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Verified
10 小时前

化学机械研磨

F-REX300S CMP

CMP设备

EBARA

位置:国外

Year: 2002

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10 小时前

化学机械抛光设备

EPO-222

CMP设备

EBARA

位置:国外

Year: --

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10 小时前

化学机械抛光设备

mirra MESA CMP

CMP设备

AMAT

位置:国外

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10 小时前

化学机械抛光机

EPO222

CMP设备

EBARA

位置:国内

Year: --

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10 小时前

化学机械研磨

F-REX300 CMP

CMP设备

EBARA

位置:

Year: 2004.09

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Verified
10 小时前

化学机械抛光设备

mirra MESA CMP

CMP设备

AMAT

位置:国外

Year: 2002

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10 小时前

化学机械研磨

F-REX300 CMP

CMP设备

EBARA

位置:国内

Year: 2004.09

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10 小时前

化学机械研磨

F-REX300 CMP

CMP设备

EBARA

位置:国外

Year: 2002

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10 小时前

研磨设备

EAC300bi-T

CMP设备

EBARA

位置:国外

Year: --

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10 小时前

研磨设备

EAC300bi-T

CMP设备

EBARA

位置:国外

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10 小时前

机械抛光设备

SPEEDFAM CMP-2

CMP设备

SPEED FAM

位置:国外

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10 小时前

机械抛光设备

Reflexion miniship LK

CMP设备

AMAT

位置:国外

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