전체 카테고리
세정 장비 산화 확산 포토리소그래피·현상 식각 박막 증착 이온 주입 CMP장비 측정·검사 웨이퍼 테스트 웨이퍼 박형화·다이싱 본딩·마운팅 패키징 후처리 웨이퍼 이송 시스템 진공 및 폐가스 처리 유체 공급
Language
中文 繁體中文 English 日本語 한국어

37건의 결과 표시

10 시간 전

化学机械研磨机

WSI372M

CMP장비

WESTECH

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

WSI372M

CMP장비

WESTECH

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

WSI372M

CMP장비

WESTECH

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

WSI372M

CMP장비

WESTECH

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

WSI372M

CMP장비

WESTECH

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

WSI372M

CMP장비

WESTECH

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

676

CMP장비

SpeedFam-IPEC

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

676

CMP장비

SpeedFam-IPEC

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

676

CMP장비

SpeedFam-IPEC

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

676

CMP장비

SpeedFam-IPEC

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

676

CMP장비

SpeedFam-IPEC

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

676

CMP장비

SpeedFam-IPEC

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

676

CMP장비

SpeedFam-IPEC

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械抛光

AS2000 CMP

CMP장비

SCREEN

위치:国外

Year: 2000

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨

F-REX300 CMP

CMP장비

EBARA

위치:国外

Year: 2009

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械抛光设备

SELOP12F25-S7A0021

CMP장비

Sinfornia

위치:国外

Year: 2014

가격 문의

Verified
10 시간 전

化学机械研磨机

Mirra-3400

CMP장비

AMAT

위치:国内

Year: --

가격 문의

Verified
10 시간 전

抛光设备

Reflexion FA

CMP장비

AMAT

위치:国外

Year: 2005

가격 문의

Verified