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379件の結果を表示

10 時間前

溅射台

SIH-450

薄膜堆積

ULVAC

所在地:

Year: 2001

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10 時間前

设备

2800G4 HT

薄膜堆積

Aixtron

所在地:国外

Year: 2009

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10 時間前

磁控溅射

MK-IV PVD

薄膜堆積

MRC

所在地:国外

Year: 2001

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10 時間前

化学气相沉积设备

2600G3

薄膜堆積

Aixtron

所在地:国外

Year: 2001

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10 時間前

等离子化学气相沉积

PLASMA Ⅲ

薄膜堆積

ASM

所在地:国内

Year: --

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10 時間前

个腔室气相沉积设备

Endura Ⅱ PVD 8

薄膜堆積

AMAT

所在地:国外

Year: 2007

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10 時間前

个腔室气相沉积设备

Endura Ⅱ PVD 9

薄膜堆積

AMAT

所在地:国外

Year: 2007

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10 時間前

气相沉积

C2 Triple SPEED

薄膜堆積

LAM

所在地:国外

Year: --

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10 時間前

蒸发台

EI-5

薄膜堆積

ULVAC

所在地:国内

Year: 2007

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10 時間前

气相沉积设备

Endura CL

薄膜堆積

AMAT

所在地:国内

Year: 1994

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10 時間前

气相沉积设备

Endura Ⅱ

薄膜堆積

AMAT

所在地:

Year: --

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10 時間前

设备

2800G4 HT

薄膜堆積

Aixtron

所在地:国外

Year: 2009

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10 時間前

化学气相沉积设备

2600G3 TA/TE/TM

薄膜堆積

Aixtron

所在地:国内

Year: 2001/02/07

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10 時間前

蒸发台

ohmiker-80B

薄膜堆積

CELLO

所在地:

Year: 2014

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10 時間前

蒸发台

ohmiker-80B

薄膜堆積

CELLO

所在地:

Year: 2016

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10 時間前

溅射台

ILC-1051

薄膜堆積

ANELVA

所在地:国内

Year: --

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10 時間前

溅射台

ILC-1051

薄膜堆積

ANELVA

所在地:国内

Year: --

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10 時間前

溅射台

ILC-1051

薄膜堆積

ANELVA

所在地:国内

Year: 1990.9

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