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顯示 379 筆結果

10 小時前

溅射台

SIH-450

薄膜沉積

ULVAC

地點:

Year: 2001

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Verified
10 小時前

设备

2800G4 HT

薄膜沉積

Aixtron

地點:国外

Year: 2009

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Verified
10 小時前

磁控溅射

MK-IV PVD

薄膜沉積

MRC

地點:国外

Year: 2001

聯繫詢價

Verified
10 小時前

化学气相沉积设备

2600G3

薄膜沉積

Aixtron

地點:国外

Year: 2001

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Verified
10 小時前

等离子化学气相沉积

PLASMA Ⅲ

薄膜沉積

ASM

地點:国内

Year: --

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10 小時前

个腔室气相沉积设备

Endura Ⅱ PVD 8

薄膜沉積

AMAT

地點:国外

Year: 2007

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10 小時前

个腔室气相沉积设备

Endura Ⅱ PVD 9

薄膜沉積

AMAT

地點:国外

Year: 2007

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10 小時前

气相沉积

C2 Triple SPEED

薄膜沉積

LAM

地點:国外

Year: --

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10 小時前

蒸发台

EI-5

薄膜沉積

ULVAC

地點:国内

Year: 2007

聯繫詢價

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10 小時前

气相沉积设备

Endura CL

薄膜沉積

AMAT

地點:国内

Year: 1994

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10 小時前

气相沉积设备

Endura Ⅱ

薄膜沉積

AMAT

地點:

Year: --

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10 小時前

设备

2800G4 HT

薄膜沉積

Aixtron

地點:国外

Year: 2009

聯繫詢價

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10 小時前

化学气相沉积设备

2600G3 TA/TE/TM

薄膜沉積

Aixtron

地點:国内

Year: 2001/02/07

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10 小時前

蒸发台

ohmiker-80B

薄膜沉積

CELLO

地點:

Year: 2014

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10 小時前

蒸发台

ohmiker-80B

薄膜沉積

CELLO

地點:

Year: 2016

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10 小時前

溅射台

ILC-1051

薄膜沉積

ANELVA

地點:国内

Year: --

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10 小時前

溅射台

ILC-1051

薄膜沉積

ANELVA

地點:国内

Year: --

聯繫詢價

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10 小時前

溅射台

ILC-1051

薄膜沉積

ANELVA

地點:国内

Year: 1990.9

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