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10 小时前

低压化学气相沉积

DJ-803V

薄膜沉积

KOKUSAI

位置:国内

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10 小时前

低压化学气相沉积

DJ-803V

薄膜沉积

KOKUSAI

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10 小时前

低压化学气相沉积

DJ-803V

薄膜沉积

KOKUSAI

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10 小时前

低压化学气相沉积

DJ-803V

薄膜沉积

KOKUSAI

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10 小时前

气相沉积设备

Inova

薄膜沉积

Novellus

位置:国外

Year: 2012

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10 小时前

化学气相沉积设备

Concept ONE(200)

薄膜沉积

Novellus

位置:国内

Year: 1996

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10 小时前

气相沉积

FC7100

薄膜沉积

CANON

位置:国外

Year: 2011

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10 小时前

气相沉积设备

Endura CL

薄膜沉积

AMAT

位置:国外

Year: 2004

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10 小时前

气相沉积设备

MBB-830

薄膜沉积

TEL

位置:国外

Year: 1995

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10 小时前

叶片式溅射设备

ZX-1000

薄膜沉积

ULVAC爱发科

位置:国外

Year: 1996

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10 小时前

气相沉积设备

Endura 5500

薄膜沉积

AMAT

位置:国内

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10 小时前

金属溅镀机

MRC MARKⅡ

薄膜沉积

AMAT

位置:国内

Year: 2019

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10 小时前

金属溅镀机

MRC STAR

薄膜沉积

AMAT

位置:国内

Year: 2019

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10 小时前

气相沉积

FC7102

薄膜沉积

CANON

位置:国外

Year: 2005

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10 小时前

气相沉积设备

Endura 5500

薄膜沉积

AMAT

位置:国外

Year: 1998

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10 小时前

蒸发台

FU-20

薄膜沉积

FULINTEC

位置:国内

Year: 2010

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10 小时前

气相沉积设备

Endura 5500

薄膜沉积

AMAT

位置:国外

Year: 1998

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10 小时前

气相沉积

C-7100GT

薄膜沉积

CANON

位置:国外

Year: 2007

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