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379건의 결과 표시

10 시간 전

溅射台

SIH-450

박막 증착

ULVAC

위치:

Year: 2001

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10 시간 전

设备

2800G4 HT

박막 증착

Aixtron

위치:国外

Year: 2009

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10 시간 전

磁控溅射

MK-IV PVD

박막 증착

MRC

위치:国外

Year: 2001

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Verified
10 시간 전

化学气相沉积设备

2600G3

박막 증착

Aixtron

위치:国外

Year: 2001

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Verified
10 시간 전

等离子化学气相沉积

PLASMA Ⅲ

박막 증착

ASM

위치:国内

Year: --

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10 시간 전

个腔室气相沉积设备

Endura Ⅱ PVD 8

박막 증착

AMAT

위치:国外

Year: 2007

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10 시간 전

个腔室气相沉积设备

Endura Ⅱ PVD 9

박막 증착

AMAT

위치:国外

Year: 2007

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10 시간 전

气相沉积

C2 Triple SPEED

박막 증착

LAM

위치:国外

Year: --

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10 시간 전

蒸发台

EI-5

박막 증착

ULVAC

위치:国内

Year: 2007

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10 시간 전

气相沉积设备

Endura CL

박막 증착

AMAT

위치:国内

Year: 1994

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10 시간 전

气相沉积设备

Endura Ⅱ

박막 증착

AMAT

위치:

Year: --

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10 시간 전

设备

2800G4 HT

박막 증착

Aixtron

위치:国外

Year: 2009

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10 시간 전

化学气相沉积设备

2600G3 TA/TE/TM

박막 증착

Aixtron

위치:国内

Year: 2001/02/07

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10 시간 전

蒸发台

ohmiker-80B

박막 증착

CELLO

위치:

Year: 2014

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10 시간 전

蒸发台

ohmiker-80B

박막 증착

CELLO

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Year: 2016

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10 시간 전

溅射台

ILC-1051

박막 증착

ANELVA

위치:国内

Year: --

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10 시간 전

溅射台

ILC-1051

박막 증착

ANELVA

위치:国内

Year: --

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10 시간 전

溅射台

ILC-1051

박막 증착

ANELVA

위치:国内

Year: 1990.9

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