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显示 379 条结果

10 小时前

溅射台

SIH-450

薄膜沉积

ULVAC

位置:

Year: 2001

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10 小时前

设备

2800G4 HT

薄膜沉积

Aixtron

位置:国外

Year: 2009

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10 小时前

磁控溅射

MK-IV PVD

薄膜沉积

MRC

位置:国外

Year: 2001

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10 小时前

化学气相沉积设备

2600G3

薄膜沉积

Aixtron

位置:国外

Year: 2001

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10 小时前

等离子化学气相沉积

PLASMA Ⅲ

薄膜沉积

ASM

位置:国内

Year: --

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10 小时前

个腔室气相沉积设备

Endura Ⅱ PVD 8

薄膜沉积

AMAT

位置:国外

Year: 2007

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10 小时前

个腔室气相沉积设备

Endura Ⅱ PVD 9

薄膜沉积

AMAT

位置:国外

Year: 2007

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10 小时前

气相沉积

C2 Triple SPEED

薄膜沉积

LAM

位置:国外

Year: --

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10 小时前

蒸发台

EI-5

薄膜沉积

ULVAC

位置:国内

Year: 2007

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10 小时前

气相沉积设备

Endura CL

薄膜沉积

AMAT

位置:国内

Year: 1994

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10 小时前

气相沉积设备

Endura Ⅱ

薄膜沉积

AMAT

位置:

Year: --

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10 小时前

设备

2800G4 HT

薄膜沉积

Aixtron

位置:国外

Year: 2009

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10 小时前

化学气相沉积设备

2600G3 TA/TE/TM

薄膜沉积

Aixtron

位置:国内

Year: 2001/02/07

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10 小时前

蒸发台

ohmiker-80B

薄膜沉积

CELLO

位置:

Year: 2014

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10 小时前

蒸发台

ohmiker-80B

薄膜沉积

CELLO

位置:

Year: 2016

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10 小时前

溅射台

ILC-1051

薄膜沉积

ANELVA

位置:国内

Year: --

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10 小时前

溅射台

ILC-1051

薄膜沉积

ANELVA

位置:国内

Year: --

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10 小时前

溅射台

ILC-1051

薄膜沉积

ANELVA

位置:国内

Year: 1990.9

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