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1980 2026

379件の結果を表示

10 時間前

溅射台

ILC-1051

薄膜堆積

ANELVA

所在地:国内

Year: 2001

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10 時間前

溅射台

I-1060 SV Ⅱ

薄膜堆積

ANELVA

所在地:国内

Year: 1995.08

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10 時間前

离子束沉积设备

IBD/IBE

薄膜堆積

VEECO

所在地:国内

Year: --

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10 時間前

薄膜生长设备

GMR-PVD

薄膜堆積

VEECO

所在地:国内

Year: --

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10 時間前

薄膜沉积设备

RAD BPM3

薄膜堆積

EVATEC

所在地:国内

Year: 2018

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10 時間前

蒸发台

EI-5T

薄膜堆積

ULVAC

所在地:国内

Year: 2010

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10 時間前

气相沉积设备

Endura 5500

薄膜堆積

AMAT

所在地:国外

Year: 1996

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10 時間前

化学气相沉积

K475

薄膜堆積

VEECO

所在地:国外

Year: 2015

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10 時間前

外延沉积设备

Epsilon 2000 EPI PR

薄膜堆積

ASM

所在地:国外

Year: 2001

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10 時間前

化学气相沉积

2800G5 HT

薄膜堆積

Aixtron

所在地:国外

Year: 2016

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10 時間前

化学气相沉积

ALPHA-808SC

薄膜堆積

TEL

所在地:国外

Year: 1994

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10 時間前

薄膜沉积设备

RAD BPM3

薄膜堆積

EVATEC

所在地:国内

Year: 2019

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10 時間前

设备

2800G4 HT

薄膜堆積

Aixtron

所在地:国外

Year: 2007

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10 時間前

化学气相沉积

2800G5+

薄膜堆積

Aixtron

所在地:国外

Year: 2013

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10 時間前

蒸发台

FU-20 PEB-RH-1200

薄膜堆積

FULINTEC

所在地:

Year: 2007

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10 時間前

气相沉积设备

FSM128LC2C

薄膜堆積

FRONTIER

所在地:国外

Year: --

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10 時間前

气相沉积设备

ALTUS(Chamber only)

薄膜堆積

LAM

所在地:国外

Year: --

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10 時間前

气相沉积设备

ALTUS(Chamber only)

薄膜堆積

LAM

所在地:国外

Year: --

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