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顯示 379 筆結果

10 小時前

溅射台

ILC-1051

薄膜沉積

ANELVA

地點:国内

Year: 2001

聯繫詢價

Verified
10 小時前

溅射台

I-1060 SV Ⅱ

薄膜沉積

ANELVA

地點:国内

Year: 1995.08

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10 小時前

离子束沉积设备

IBD/IBE

薄膜沉積

VEECO

地點:国内

Year: --

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10 小時前

薄膜生长设备

GMR-PVD

薄膜沉積

VEECO

地點:国内

Year: --

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10 小時前

薄膜沉积设备

RAD BPM3

薄膜沉積

EVATEC

地點:国内

Year: 2018

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10 小時前

蒸发台

EI-5T

薄膜沉積

ULVAC

地點:国内

Year: 2010

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10 小時前

气相沉积设备

Endura 5500

薄膜沉積

AMAT

地點:国外

Year: 1996

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10 小時前

化学气相沉积

K475

薄膜沉積

VEECO

地點:国外

Year: 2015

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10 小時前

外延沉积设备

Epsilon 2000 EPI PR

薄膜沉積

ASM

地點:国外

Year: 2001

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10 小時前

化学气相沉积

2800G5 HT

薄膜沉積

Aixtron

地點:国外

Year: 2016

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10 小時前

化学气相沉积

ALPHA-808SC

薄膜沉積

TEL

地點:国外

Year: 1994

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10 小時前

薄膜沉积设备

RAD BPM3

薄膜沉積

EVATEC

地點:国内

Year: 2019

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10 小時前

设备

2800G4 HT

薄膜沉積

Aixtron

地點:国外

Year: 2007

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10 小時前

化学气相沉积

2800G5+

薄膜沉積

Aixtron

地點:国外

Year: 2013

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10 小時前

蒸发台

FU-20 PEB-RH-1200

薄膜沉積

FULINTEC

地點:

Year: 2007

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10 小時前

气相沉积设备

FSM128LC2C

薄膜沉積

FRONTIER

地點:国外

Year: --

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10 小時前

气相沉积设备

ALTUS(Chamber only)

薄膜沉積

LAM

地點:国外

Year: --

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10 小時前

气相沉积设备

ALTUS(Chamber only)

薄膜沉積

LAM

地點:国外

Year: --

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