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10 小时前

溅射台

ILC-1051

薄膜沉积

ANELVA

位置:国内

Year: 2001

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10 小时前

溅射台

I-1060 SV Ⅱ

薄膜沉积

ANELVA

位置:国内

Year: 1995.08

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10 小时前

离子束沉积设备

IBD/IBE

薄膜沉积

VEECO

位置:国内

Year: --

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10 小时前

薄膜生长设备

GMR-PVD

薄膜沉积

VEECO

位置:国内

Year: --

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10 小时前

薄膜沉积设备

RAD BPM3

薄膜沉积

EVATEC

位置:国内

Year: 2018

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10 小时前

蒸发台

EI-5T

薄膜沉积

ULVAC

位置:国内

Year: 2010

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10 小时前

气相沉积设备

Endura 5500

薄膜沉积

AMAT

位置:国外

Year: 1996

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10 小时前

化学气相沉积

K475

薄膜沉积

VEECO

位置:国外

Year: 2015

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10 小时前

外延沉积设备

Epsilon 2000 EPI PR

薄膜沉积

ASM

位置:国外

Year: 2001

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10 小时前

化学气相沉积

2800G5 HT

薄膜沉积

Aixtron

位置:国外

Year: 2016

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10 小时前

化学气相沉积

ALPHA-808SC

薄膜沉积

TEL

位置:国外

Year: 1994

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10 小时前

薄膜沉积设备

RAD BPM3

薄膜沉积

EVATEC

位置:国内

Year: 2019

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10 小时前

设备

2800G4 HT

薄膜沉积

Aixtron

位置:国外

Year: 2007

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10 小时前

化学气相沉积

2800G5+

薄膜沉积

Aixtron

位置:国外

Year: 2013

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10 小时前

蒸发台

FU-20 PEB-RH-1200

薄膜沉积

FULINTEC

位置:

Year: 2007

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10 小时前

气相沉积设备

FSM128LC2C

薄膜沉积

FRONTIER

位置:国外

Year: --

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10 小时前

气相沉积设备

ALTUS(Chamber only)

薄膜沉积

LAM

位置:国外

Year: --

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10 小时前

气相沉积设备

ALTUS(Chamber only)

薄膜沉积

LAM

位置:国外

Year: --

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